光刻机当然很有用。现实情况是，中国在芯片制造领域，最缺少最短板的就是EUV光刻机，以及EDA软件等工具。

现在国内晶圆厂使用的都是ASML的DUV光刻机。国产DUV光刻机还不成熟，而且还是干式，而非浸润式（immersion）。更别说EUV光刻机了。

如果能进口ASML NXE:3600D甚至是NXE:5000的新型EUV光刻机，对中芯国际等国内芯片制造企业当然是有利的。

【 在 SSJ100 的大作中提到: 】
: 光刻机根本不值得换，没用的玩意
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