“由上述分析可以看出，我国光刻机的分辨率不低，为65nm”

我从上述分析真没看出来


【 在 lili2030 的大作中提到: 】
: 光刻机的分辨率和套刻精度是衡量光刻机性能的两个关键指标。
: 分辨率指的是光刻机能够清晰投影最小图像的能力，它决定了光刻机能够被应用于的工艺节点水平。光刻机的分辨率与光源波长、数值孔径（NA）以及工艺相关参数有关，具体的计算公式为：R = \frac{k_1 \times \lambda}{NA}，其中 R 代表分辨率，k_1 是工艺相关参数，\lambda 代表光源波长，NA 是光学镜头的数值孔径。
: 套刻精度则是指在多次光刻过程中，不同层次之间的图案对准精度。如果对准的偏差过大，就会直接影响产品的良率。套刻精度对于高阶的光刻机来说尤为重要，设备供应商通常会提供单机自身的两次套刻误差和不同设备间的套刻误差这两个数值。
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