搜了一下，
2002年成立了一个公司叫上海微电子，这就很容易和上海微系统所和中科院微电子所搞混，其实这个公司和中科院没关系。

根据网上公开的一些资料，可以将目前上海微电子光刻机项目各子系统拆分如下：

上海微电子负责光刻机设计和总体集成，北京科益虹源提供光源系统，北京国望光学提供物镜系统，国科精密提供曝光光学系统，华卓精科提供双工作台（上海微电子也在自研），启尔机电提供浸没系统。

在193nm浸没式光刻机所需光源系统方面，主要由中科院光电研究院负责准分子激光光源系统研发，由北京科益虹源负责产业转化。在浸液系统方面，主要由浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室和浙江启尔机电负责。在物镜系统研发方面，主要由中科院长春光机所（现北京国望光学）负责。在双工件台方面，资料显示，2016年由清华大学（主要依托华卓精科）承担。

就参与单位来看，确实有中科院的份，但不知道这次失败有多大责任

【 在 warranty 的大作中提到: 】
: 咋都把锅往中科院身上甩？
: 哪个所搞的？
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