- 主题:ASML CEO专访：中国芯片制造技术落后西方10-15年
现在的光刻胶比十年前有啥进步？
【 在 mazz 的大作中提到: 】
: 国产半导体设备落后10~15年还差不多，光刻胶之类的耗材最多10年，制程只落后5年
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FROM 117.133.66.*
所以说光刻胶差距十年就是彻底，一个化学品怎么可能卡脖子。
【 在 mazz 的大作中提到: 】
: 十年前EUV光刻胶还没量产吧？
: 但现在国产DUV光刻胶已经在试用了
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修改:MachvPicchv FROM 117.133.66.*
FROM 117.133.66.*
扯淡，此材料非彼材料。而且现在军工材料基本卡不了脖子了，甚至可以反卡。
【 在 dodaddy 的大作中提到: 】
: 化学品才最容易卡脖子，所有的差距归根到底是材料的差距。
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FROM 223.104.103.*