ASML CEO专访：中国芯片制造技术落后西方10-15年

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主题:ASML CEO专访：中国芯片制造技术落后西方10-15年
6楼|mazz|2024-12-27 13:01:27|展开
国产半导体设备落后10~15年还差不多，光刻胶之类的耗材最多10年，制程只落后5年
【在 Fgps 的大作中提到: 】
: 看起来差距不大，10年前就14nm了吧？近日，荷兰光刻机大厂ASML&nbsp;CEO&nbsp;Christophe& ...
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17楼|mazz|2024-12-29 08:14:51|展开
十年前EUV光刻胶还没量产吧？
但现在国产DUV光刻胶已经在试用了
【在 MachvPicchv 的大作中提到: 】
: 现在的光刻胶比十年前有啥进步？ ...
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