好
【 在 baiduwm8 的大作中提到: 】
: 刻蚀，英文为Etch，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻[1]相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉
: 璩サ牟糠帧？淌词怯没Щ蛭锢矸椒ㄓ醒≡竦卮庸杵砻嫒コ恍枰牟牧系墓蹋浠灸勘晔窃谕拷旱墓杵险返馗粗蒲谀Ｍ夹巍Ｋ孀盼⒅圃旃ひ盏姆⒄梗阋迳侠唇玻淌闯闪送ü芤骸⒎从胱踊蚱渌捣绞嚼窗离、去除材料的一种统称，成为微加工制造的一种普适叫法
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