国产光刻机在超净间和foundry用的多吗？

十年前，在苏州某个加工平台，用的suss ml3(忘了型号了），分辨率1um，主要做mems,也够用。有趣的是旁边有一台中科院生产的光刻机，工作人员说性能差不多。但这台机一直摆在这，没有客户使用过。

十年过去了，好奇现在国产光刻机比例高不高？不一定是高端的，14nm 或28nm这种用于集成电路，也包括中低端的，比如mems或微流体相关的。

发自「今日水木 on CLT-AL00l」
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