- 主题:苏姿丰咋这么牛
1000多道工序光刻才占了百分之几？离子注入，镀铜，低介电膜，应用更多，国内又能做出哪一个？而且设备因素占比只是一部分，IP很重要，你说的光刻，要有合适的抗反射层来配合，你说该用碳氧化硅还是氮氧化硅？
【 在 pigverybig 的大作中提到: 】
: 你是来搞笑的吧。
: 苏姿丰来了有个屁用啊，她脑子里装着光刻机图纸？
: 现在要挽救中国的高端半导体产业，只有一条路，就是赶快攻克高端光刻机。
: ...................
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FROM 223.104.34.*
选择cpu
怎么不说是发现自己手里的牌打不过老黄
但是能打过阿三的intel
才这么决定的呀
intel连着挤牙膏，看起来才是好对手
cpu发展慢，才容易超车
老黄不断出新东西，投入创新哪那么容易？跟随比较容易，自己创新试错成本太高了。
【 在 doubleback 的大作中提到: 】
: 我承认Lisa Su水平比前几任CEO要强，但是个人认为最主要的还是外部环境变化。她的决策失误还是不少的，比如押注CPU，把GPU市场放给了NV，结果这几年AI热门，AMD这一块又落后了，其实当时AMD GPU的差距比CPU小。再比如前几年Jim Keller和Koduri有分歧，她选择支持Koduri，结果Keller立刻辞职，然后Koduri这家伙也去了Intel。现在看来Keller的意见是对的。
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修改:zyd FROM 171.88.31.*
FROM 171.88.31.*
你修过你就能造出来？
【 在 wangjch 的大作中提到: 】
: 我以前修过光刻机，你如果不懂就别瞎说了。
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FROM 98.234.0.*
光刻机是核心，是最难的。
你啰里啰唆一大堆有个鸟用，谁不知道半导体产业链不好搞。
七八十年前的中国一穷二白烂得一塌糊涂，妨碍搞出两弹一星了吗？
【 在 wangjch 的大作中提到: 】
: 1000多道工序光刻才占了百分之几？离子注入，镀铜，低介电膜，应用更多，国内又能做出哪一个？而且设备因素占比只是一部分，IP很重要，你说的光刻，要有合适的抗反射层来配合，你说该用碳氧化硅还是氮氧化硅？
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FROM 98.234.0.*
你是做什么专业方向的呢，可以讨论交流。
【 在 pigverybig 的大作中提到: 】
: 你修过你就能造出来？
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FROM 223.104.34.*
好吧，我不说了。听你讲
【 在 pigverybig 的大作中提到: 】
: 光刻机是核心，是最难的。
: 你啰里啰唆一大堆有个鸟用，谁不知道半导体产业链不好搞。
: 七八十年前的中国一穷二白烂得一塌糊涂，妨碍搞出两弹一星了吗？
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FROM 223.104.34.*
不敢不敢，虽然也是理工科博士，但是做的不是半导体，半导体专业知识只够论坛灌灌水。
【 在 wangjch 的大作中提到: 】
: 你是做什么专业方向的呢，可以讨论交流。
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FROM 98.234.0.*
哦
【 在 pigverybig 的大作中提到: 】
: 不敢不敢，虽然也是理工科博士，但是做的不是半导体，半导体专业知识只够论坛灌灌水。
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FROM 223.104.34.*
我有图纸 给你你能造出来吗
【 在 pigverybig 的大作中提到: 】
: 不敢不敢，虽然也是理工科博士，但是做的不是半导体，半导体专业知识只够论坛灌灌水。
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: 【 在 wangjch 的大作中提到: 】
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- 来自「最水木 for iPhone 6」
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FROM 36.23.187.*
真是无脑垃圾话。
【 在 stefaniezjuu 的大作中提到: 】
: 我有图纸 给你你能造出来吗
: - 来自「最水木 for iPhone 6」
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