【 在 Zinux 的大作中提到: 】
: 标 题: Re: 外置同步辐射光源+简化光刻机的可行性及成本分析 (转载)
: 发信站: 水木社区 (Sat Sep 9 21:45:21 2023), 站内
:
: 反正我对成本估计应该没有量级的错误
: 随着LPP EUV方案的越来越昂贵，要么EUV，要么下一代High NA EUV的成本会被
: 同步辐射光源方案追平。
:
: 事实上，对很多FEL的数据估计都是按照最保守的来的
: 比如光源厂造价按怀柔HEPS的50亿算，实际上应远小于这数
: 还有才支持10台光刻机，都是很保守的
: 电费用的是北京工业电价0.32元，如果建在水电旁边，估计0.1元都不用
北京工业电价才 0.32？武汉的民用电价都 0.6 啊……
: 真正算细账，或许ASML EUV成本就高于SRL方案，至少对我国成立
:
: 【 在 ibm221 的大作中提到: 】
: : 日本那边什么情况，
: : 有内线吗？
: : [upload=1][/upload]
: : ...................
:
: --
:
: ※ 来源:·水木社区 mysmth.net·[FROM: 123.114.95.*]
--
FROM 117.152.202.*