1keV?能量这么低？
【 在 suanshi 的大作中提到: 】
: 北京同步辐射装置光刻站建有2条光束线和相应的曝光设备，开展纳米和深度X光光刻研究，纳米光刻是以中科院微电子所谓主要研究单位，深度光刻由高能所完成，主要进行LIGA技术的研究与应用，同时还开展MEMS的其它研究。
: 光刻站同步辐射光源由弯铁引出，纳米光刻和深度LIGA光刻公用同一个前端区，通过一个反射镜实现纳米光刻和深度光刻的切换，曝光实验要分时进行。
: 光刻束线位于BEPC的第三区，有第一块弯铁引出，光束线为3B1A和3B1B，3B1A为LIGA技术深度光刻束线，3B1B为纳米光刻束线。
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