- 主题:看到一个国产euv光刻机工件台的电机
光刻机就2块,一个曝光机,一个伺服载物台
这两块又有相关性,曝光快门越快,对伺服要求越低,反过来伺服技术越高,对曝光速度要求越低
总得来说,技术路线是往曝光速度快的方向走的、
曝光快门速度快了,这能量密度就得大,光源就得牛b。
所以光刻机的核心技术实际上就是光源。
光刻厂如果真的实现了,能量密度很容易就上去了,快门可以极快,多轴伺服系统要求就很低了,就是低科技了,几十万块钱一套的都能用。
【 在 anglefly123 的大作中提到: 】
: 也就那样,我在上海微电子干过,以前是买了一台asml的机器,拆啊,,,,你懂的,,这又不是难事....
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我觉得是一个技术路径方向,但是挺科幻的
【 在 bhfwg 的大作中提到: 】
: 光刻厂是不是正确的路子?貌似都是自媒体再说,没看见权威出来说
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大胆!
不出论文出产品你就是造反。
学阀们都是水论文上去的,你唱反调就是断了人家的仙根儿。
不过如果提议把SCI国产替代,学阀们还是很有兴趣的。
【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 颜宁的成果只是出论文,而不是给某个大系统供货,否则她一定会被整死。
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