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combuster (不空智) 于 (Sun Sep 8 15:36:25 2024) 提到:
所谓的四重自对准曝光方案（SAQP）技术，实际上是以英特尔为首的半导体巨头在十年前引进的，并且在14纳米到7纳米关键节点推进时普遍采用的临时替代性方案。但是由于其本身具有的高度复杂性和良率问题，导致英特尔马失前蹄，被率先导入EUV光刻机的台积电和三星赶超。
2017年，英特尔公司在国际会议上，发表10纳米工艺的四重自对准曝光图案化技术
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dighole2 (dighole2) 于 (Sun Sep 8 16:23:19 2024) 提到:
EUV还能继续往前
EUV到头的时候也能通过多重曝光继续缩小吧
DUV 多重曝光已经到极限了，差距只会越来越大
【 在 combuster 的大作中提到: 】
: 所谓的四重自对准曝光方案（SAQP）技术，实际上是以英特尔为首的半导体巨头在十年前引进的，并且在14纳米到7纳米关键节点推进时普遍采用的临时替代性方案。但是由于其本身具有的高度复杂性和良率问题，导致英特尔马失前蹄，被率先导入EUV光刻机的台积电和三星赶超。
: 2017年，英特尔公司在国际会议上，发表10纳米工艺的四重自对准曝光图案化技术
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nkzz (我心依旧) 于 (Sun Sep 8 20:23:44 2024) 提到:
差距越来越大，不可能越来越小。
大陆绝对不可能接近弯弯
【 在 dighole2 的大作中提到: 】
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: EUV还能继续往前
: EUV到头的时候也能通过多重曝光继续缩小吧
: DUV 多重曝光已经到极限了，差距只会越来越大
: 【 在 combuster 的大作中提到: 】
#发自zSMTH-v-@OPPO PGU110
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blacksand (黑沙) 于 (Mon Sep 9 10:56:32 2024) 提到:
想啥呢，大陆超过弯弯是肉眼可见的事实。尤其是弯弯仅仅是代工厂的定位，而大陆在即将自研成功光刻机的大背景下。
【 在 nkzz 的大作中提到: 】
: 差距越来越大，不可能越来越小。
: 大陆绝对不可能接近弯弯
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baiyuw (一切归于自然) 于 (Mon Sep 9 12:12:18 2024) 提到:
【 在 nkzz 的大作中提到: 】
: 差距越来越大，不可能越来越小。
: 大陆绝对不可能接近弯弯
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用爱发电不可能接近弯弯，永远的。就光刻机这破壁玩意，兔子都不正眼瞧沙茶小蝌蚪。日月潭的小蝌蚪还是骑着扫把打飞机吧。
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tgfbeta (右旋肉碱) 于 (Mon Sep 9 12:16:28 2024) 提到:
贵站网友的语言风格还很灵活嘛！
都从哪唤醒的？
【 在 baiyuw 的大作中提到: 】
: 用爱发电不可能接近弯弯，永远的。就光刻机这破壁玩意，兔子都不正眼瞧沙茶小蝌蚪。日月潭的小蝌蚪还是骑着扫把打飞机吧。
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justmj (青青子衿忽悠我心) 于 (Mon Sep 9 12:25:36 2024) 提到:
这个论文题目里提到了很多技术。在2017年，saqp是最不值一提的。
lz就不要大惊小怪了。
【 在 combuster 的大作中提到: 】
: 所谓的四重自对准曝光方案（SAQP）技术，实际上是以英特尔为首的半导体巨头在十年前引进的，并且在14纳米到7纳米关键节点推进时普遍采用的临时替代性方案。但是由于其本身具有的高度复杂性和良率问题，导致英特尔马失前蹄，被率先导入EUV光刻机的台积电和三星赶超。
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: 2017年，英特尔公司在国
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