我觉得你没必要搞懂

【 在 fzjmaster 的大作中提到: 】
:
: 不要抠字眼，不要欺负外行。
:
: 问题翻译一下：
: 一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的光罩（mask)?
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