- 主题:6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米、周期4纳米的结构？
用程序来分GDS，一层mask分成多层，每一层里的图形间距拉大到能做的节点，然后对原本一层的工艺做多次曝光刻蚀。
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 各位高知，6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米，周期4纳米的结构？
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: ※ 修改:·snowfields 于 Apr 8 11:35:45 2025 修改本文·[FROM: 49.93.212.*]
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修改:snowfields FROM 49.93.212.*
FROM 114.254.0.*
可以在一层上面做
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 这样在晶圆做出来的不是两层，而是多层
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FROM 114.242.9.*
你是不是不知道什么叫mask？
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 假设第一次在晶圆上做了600纳米凹凸凹凸凹凸的结构，第二次错位200纳米，那最左边的200纳米深度就变得会更深，这样就变成了三层
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FROM 61.49.248.*
你一年做200次的封装mask，是不是啊？
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 我一年做200张mask
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FROM 61.49.248.*
先用程序拆分gds，是一个简单的图像处理。你如果不懂，就不需要懂了。
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 这种结构，黑白代表两种不同的深度
: 假设黑色和白色线条宽度都是200纳米，怎么用600纳米的光刻机做出这种结构出来？
: [upload=1][/upload]
: ...................
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修改:lxku FROM 61.49.248.*
FROM 61.49.248.*