水木社区手机版
- 主题:6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米、周期4纳米的结构？
- 各位高知，6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米，周期4纳米的结构？
_
※ 修改:·snowfields 于 Apr 8 11:35:45 2025 修改本文·[FROM: 49.93.212.*]
※ 来源:·水木社区 http://m.mysmth.net·[FROM: 49.90.83.*]
修改:snowfields FROM 49.93.212.*
FROM 49.90.83.* - 想做出周期4个纳米、凹凸凹凸凹凸 的周期性结构，请问用6纳米的制程能做出来吗？
【 在 muguanxi 的大作中提到: 】
: 你觉得宣称的2纳米是2纳米吗？
--
FROM 49.93.212.* - 是这个意思。最后两个字改一下，光罩改成晶圆
一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的晶圆?
【 在 fzjmaster 的大作中提到: 】
: 不要抠字眼，不要欺负外行。
: 问题翻译一下：
: 一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的光罩（mask)?
: ...................
--
修改:snowfields FROM 180.98.131.*
FROM 180.98.131.* - 这样在晶圆做出来的不是两层，而是多层
【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 用程序来分GDS，一层mask分成多层，每一层里的图形间距拉大到能做的节点，然后对原本一层的工艺做多次曝光刻蚀。
:
--
FROM 180.98.71.* - 假设第一次在晶圆上做了600纳米凹凸凹凸凹凸的结构，第二次错位200纳米，那最左边的200纳米深度就变得会更深，这样就变成了三层
【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 可以在一层上面做
--
修改:snowfields FROM 180.98.71.*
FROM 180.98.71.* - 我一年做200张mask
【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 你是不是不知道什么叫mask？
--
FROM 49.90.92.* - 多层mask，不就是多张掩膜版吗？
【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 用程序来分GDS，一层mask分成多层，每一层里的图形间距拉大到能做的节点，然后对原本一层的工艺做多次曝光刻蚀。
:
--
FROM 49.93.12.* - 这种结构，黑白代表两种不同的深度
假设黑色和白色线条宽度都是200纳米，怎么用600纳米的光刻机做出这种结构出来？
【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 你一年做200次的封装mask，是不是啊？
:
--
FROM 49.93.12.* - 请看第21楼
【 在 JavaGuyHan 的大作中提到: 】
: LELE应该可以，需要eda软件的配合，良率会下降。
: :
--
FROM 49.93.12.*