mask分成多层，但刻蚀是在同一层。
你如果不是学半导体的，我劝你不要来瞎折腾，这里面的坑很多。
当然，如果你愿意带着钱来撒，那是很欢迎的，否则没人陪你浪费时间。
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 图1是掩膜版，线条宽度600微米，图2是同一块掩膜版，向右错位200微米，图3是同一块掩膜版，向左错位200微米。通过套刻，可以得到图3到图7的结构，任何一种结构都有4种或5种不同深度，但需要的是最后面那个图（图8）那样的2种不同深度。
: [upload=1][/upload]
: [upload=2][/upload]
: ...................
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修改:lxku FROM 114.242.9.*
FROM 114.242.9.*

你们的光刻机上过SMIC吗？上过央视有什么用呢？
就像一架飞机不能在天上飞，只能在抖音里见到，呵呵
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 一个啥都不懂的学渣冒充学霸，就是你这种典型的言辞
: 掩膜版 分很多层，需要你来说吗？我有正版的eda软件，我每周都使用正版的eda软件和光刻机，我们的光刻机还上过中央电视台
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FROM 114.242.9.*