弯心展没啥特别的突破，可能那个高速示波器算一个吧，其他就没了，那个什么引起关注的EDA工具简直是笑话，做PCB的既没太高技术含量又没啥市场前景，业内正经做国产EDA的谁投精力做那个呀。
光刻机不了解，计算光刻软件国内倒是勉强可以搞7，也是配mp着色技术。
【 在 smthxes 的大作中提到: 】
: 28nm光刻机通过华为的sap技术可以达到5nm，央视报道的华为手机5nm芯片就是通过这个技术实现的，明年可以做到7,80%的良率
: 7.48 11/10 v@f.ba teB:/ 按这位专业人士的爆料看，光刻机原来早有突破
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