5nm及以下，成本增加太多，用户越来越少了，很难办，可能只能小的改进了。
【 在 phoenixhills 的大作中提到: 】
: 现有指数周期，还有5纳米、3纳米、2纳米、1.5纳米等四个节点，如果我们走不下去，就会面临产业发展停滞的局面。这意味着公司和硅农的收入锐减，面临一波较大的冲击。可以采用7纳米堆叠，但强散热技术必须配套跟上才行。
: 我们自研的光刻机，还不能处理22纳米以下的工艺，需要有过渡性技术，用碳电子重走90到7纳米工艺进步过程，可以创造15年的发展时间，给光刻机研发创造时间条件。
: 对于后摩尔阶段，相应的研究也应该开始了，这个还应该是主攻方向。这需要创造一个比华为创新力强大50倍的创新组织，发挥产业引擎作用。没有这个引擎，就会陷入西西弗斯困境，每到坡道边缘，都会因力量不足功亏一篑，像日本那样反复原地踏步。
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