台湾太需要这技术了，台湾电力短缺。
【 在 shiliangde 的大作中提到: 】
: 日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术，能够大幅降低制造最尖端半导体所需的极紫外线（EUV）光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。这样可以显著减少EUV光源的耗电量。该大学将与企业合作，力争实现这种设备的日本国产化。
:
: 上述新技术由冲绳科学技术大学院大学的新竹积教授开发。目前，EUV光刻设备由荷兰半导体制造设备巨头ASML控股独家供应。现有设备的原理是使用激光器产生EUV，并通过10个镜子曲折反射到达晶圆，实现电路图案的转印，非常复杂。
: ...................
--
FROM 114.254.0.*