国产光刻机的商业化应用，还需要时间。进口光刻机和国产研发可以并行，就像民航客机那样。

现在国产DUV光刻机都还不成熟，而且还是干式，而非浸润式（immersion）。更别说EUV光刻机了。

如果能进口ASML NXE:3600D甚至是NXE:5000的新型EUV光刻机，对中芯国际等国内芯片制造企业当然是有利的。

【 在 ssst 的大作中提到: 】
: 光刻机现在不是急需。以免影响自己研发，禁了才有动力继续突破
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修改:wahrheit FROM 119.39.112.*
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