有的人，就是无知者无畏
这些人千万别在科技行业当领导

--------------------
发信人: bearooo (小熊), 标  题: 光刻机的光源为什么那么难突破？
发信站: 水木社区 (Mon Nov 15 16:52:57 2021), 站内  
13.5nm极紫外光源与193nm深紫外光源有着技术上的代差，那13.5nm极紫外光源就那么难产生？说白了不就是采用一些技术手段嘛，理论应该都有，也没法保密，剩下的就是各种方法都试一试，不明白难在哪儿

你说的是结果，还是没回答为什么
比如精度为什么不高，输出功率为什么不稳定？
材料问题还可以理解，材料这玩意儿短期不好突破
理论上的？不太可能，应用领域理论应该差别不大
方法？哪就寻找呗，有啥难度？
总之，我理解是除了极个别材料或者工艺上的问题
其它问题都可以解决，无非就是方法是否先进，成本是否低
比如那个功率波动大，肯定可以解决啊，顶多是用的方法笨一点成本高罢了，怎么可能解决不了？

发信人: fancysky (轻舞飞扬),
一个是强度，一个是纯度。
比如某激光器，国外品牌能控制波长在正负0.5纳米的精度。国产的正负5纳米。
还有功率，进口的输出功率很稳定，国产的波动很大，一会儿20瓦，一会儿30瓦

发信人: agui099 (老鬼),
现在就是缺少精神，今天跟一个教授聊天，某技术国外已经做出来，他不敢尝试，因为有难度，另外也怕考核
【 在 MountWater 的大作中提到: 】
: 有一些高精尖技术，单靠精神，是干不出来的。

发信人: ble (ble),
EUV的光源应该不是只有一家能造，比如日本的Gigaphoton。但是最主要的问题是，这个市场没有让别的厂家发育的机会，不再需要供应商了，德国通快控股美国Cymer，成了ASML唯一供货商，别的厂家也就彻底丧失了这个市场。
但是国内现在不是按产业的思路在搞这个，而是在科技攻关。好几家科研机构在光源这一块的突破反倒是相当迅速的，长春光机所甚至和通快在合作研发。而且国内的自由电子激光是有可能在光源这一块弯道超车的，走一条不同路径的。ASML/通快用CO2打锡滴其实是当前技术水品上不得已的一种选择，人为的增加了相当大的系统复杂度，将来一定会出现更优的替换选择。
  不过如你所说，这是一个庞大的复杂系统，缺任何一块都拼不起来，没有其他组成部分还是白搭。目前光源，镜头/光路，工台，就差光学镜头了。搭个原型出来应该快了，最怕的是等你原型出来之后，封锁放开，这些研发被中止，一切归零了。
  【 在 athody 的大作中提到: 】
: euv光刻机上没啥部分是简单的
: 没有最难只有更难
: 光源也是全球就一家供应商能造 别无分号
--
修改:alongtimeago FROM 59.109.157.*
FROM 59.109.151.*