发信人: flaredl (flaredl), 信区: NewExpress
标 题: Re: 野鸡社：ASML向国内倾销DUV光刻机（吹牛吧？）
发信站: 水木社区 (Fri Jul 1 23:43:39 2022),
duv不是euv,汽车存储类够用，和丑国的限制一样，一旦自研突破，立刻倾销
1.制程范围不同 duv:基本上只能做到25nm,Intel凭借双工作台的模式做到了10nm,却无法达到10nm以下。 euv:能满足10nm以下的晶圆权制造,并且还可以向5nm、3nm继续延伸。
2.发光原理不同 duv:光源为准分子激光,光源的波长能达到193纳米。 euv:激光激发等离子来发射EUV光子,光源的波长则为13.5纳米。
3.光路系统不同 duv:主要利用光的折射原理。其中,浸没式光刻机会在投影透镜与晶圆之间,填入去离子水,使得193nm的光波等效至134nm。 euv:利用的光的反射原理,内部必须为真空操作。
【 在 Torres99 的大作中提到: 】
: 卢克文的微博：ASML今年第一季度就向国内厂商出货了23台DUV光刻机，过去总共才卖了50多台给中国
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