为什么不能用安检的X射线做光源呢？

1. 安检的X光

- 安检的X光是硬X射线

- 波长极短：只有 0.01～0.1 nm

- 穿透力太强，直接穿透晶圆、掩膜、光刻胶

- 光子能量极高，会直接打坏半导体晶格、破坏材料、烧毁光刻胶

- 光线完全无法聚焦、没法控形、没法做精细图案

2. 光刻能用的X射线是什么（中科院用的）

- 是软X射线

- 波长 0.2～1.0 nm

- 穿透力刚好：只停在光刻胶表层曝光，不穿透基底

- 能量温和，只发生光化学反应，不会破坏硅片结构

- 才能做精密微纳图案曝光

3. 区别

1. 安检X光：穿透力过强，是用来「穿透看内部」的

2. 光刻软X光：穿透力可控，是用来「表层精准曝光」的

安检X光照芯片，只会把芯片照报废，完全无法刻出线路图案。

4. 总结

安检硬X射线 = 破坏性强、穿透过头，不能光刻
光刻软X射线 = 波长合适、能量刚好，才能做芯片曝光




【 在 TexasPotato 的大作中提到: 】
: 从物理原理上，X射线光刻机比EUV光刻机更有优势；但从工程、量产、产业链现实看，目前还远不能替代EUV。
: 一、X射线光刻（中科院路线）理论上的优势
: - 波长更短、分辨率天生更高
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