【 在 eefaquir 的大作中提到: 】
: 说出来你可能不信
: 这个时期是中国半导体技术与世界先进水平差距最小的时候
:

1977年，光刻机技术座谈会在江苏吴县召开
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1977年5月14～19日，受四机部委托，上海大规模集成电路会战组主持召开本次会议，出席会议的有来自全国光刻机研制、使用的42家单位代表共67人。
背景小资料：
1974年《全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战》的那些事--
1974年9月，第一次全国大规模集成电路工业会议召开，国家计委在北京召开《全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议》，拟定的目标是【1974～1976年期间，突破大规模集成电路的工艺、装备、基础材料等方面关键技术】
四机部组织京沪电子工业会战，进行大规模集成电路及材料、装备研发，突破超微粒干板、光刻胶、超纯净试剂、高纯度气体，磁场偏转电子束镀膜机等材料、装备。
1975年12月，第二次全国大规模集成电路会议在上海召开。
1977年1月，第三次全国大规模集成电路会议在贵州召开。　
于是才有了80年前后，中科院系统、电子部系统、地方各研发单位光刻机成果的第一次大爆发。
清华那个光刻机卖了不少出去，赚了不少钱给学校，84年整个项目组砍了
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修改:anchuner FROM 125.88.24.*
FROM 125.88.24.*