这些都是表面的，你要想想，为啥日本只能在材料和设备上有领先优势，而美规却能在器件、微架构这些更加综合的上面有领先优势，而我们只能在买买买的基础上搞国产替代，就这样还是在单纯的材料和设备方面仍然赶不上日本。为啥这些深层次的方面，我们不仅不如美规，还不如日本。是不是我们产学研的概念和人家不同，是不是我们搞的是目标导向，没有结合问题导向？两个认知层次上的差距，就是中、日、美三个技术台阶形成的根本原因。


【 在 TexasPotato 的大作中提到: 】
: 日本还行。全世界三大光刻机制造商，日本占了两个，虽然已经大不如前
: 半导体材料，比如光刻胶，日本很厉害
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日本rapidus搞2纳米，那是美规通过IBM赋能的结果。日本集成电路不行，早已定论：第三个指数阶段在90、65、45、32纳米四次举国攻坚，均未取得系统化突破。美规援日2纳米之前，全日最先进工艺只有45纳米，还是由于美国不禁止其购买成套工艺设备买来的。但美对其禁售32纳米以下工艺，日本在2015到2025年的十年间就始终无法跨越22米。22纳米是单一技术必须综合在finfet器件上应用的门槛，单项技术都无法突破，综合就不用讲。

不是日本人不行，也不是日本国对集成电路不够重视，是方法不对头。日本相对美规而言，方法不对头，但日本的方法能突破材料和工艺设备。我们相对日子而言，方法不对头。这也不是我们人不行，更不是国家不重视。只是因为，我们的方法还解决不了日本能解决的核心材料问题，至于euv，我不能乌鸦嘴乱讲，我希望我们能迅速突破。只有有成套设备，我们就能走通，这是我们的强处，日本不行，关键在于我们有个特殊人物，日本没这个条件。


【 在 BenRenO 的大作中提到: 】
: 倭国在集成电路上面不行？
: 人家都搞出2nm了，也早就有自己的光刻机。贵国还在为7nm烦恼。
: 也好意思说人家不行。
: ...................
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没关联。



【 在 Madlee 的大作中提到: 】
: 有没有可能，这些日本人拿诺奖的成就，就是在那段日本人集成电路很牛的年代做出来的。
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这就怪啦，科研做的好，为什么产业能力会下降？

还是需要重新考虑一下：一方面，基础研究、应用研究、产业化这条路线是不是发生了变化；另一方面，传统系统工程，都要现有个整体设想，然后才能瀑布模型，分解任务、分配任务，可集成电路指数发展遭遇瓶颈后，有解决问题的整体方案吗？传统系统工程方法还适用吗？

如果工程化的底层模型错了，怎么办？难道不是美规有适应集成电路发展的最完善的底层模型，日本有简陋的底层模型，而我们还停留在有蓝图系统工程的旧认识里？


【 在 gang2k 的大作中提到: 】
: 就说明人家科研做的好，也可能是科研方面的制度好。 产业能力下降
: 发自「今日水木 on iPad Air 4」
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修改:phoenixhills FROM 125.33.83.*
FROM 125.33.83.*

呵呵


【 在 kissenger 的大作中提到: 】
: 地命海心
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