不要盲目乐观。网上的自媒体吹嘘不可信，要看实际情况。国产光刻机的商业化应用，还需要时间。

国内的一些EUV“技术突破”，距离商业化、实用化、成熟化的EUV光刻机产品，还有很大差距的。现在国产DUV光刻机都还不成熟，而且还是干式，而非浸润式（immersion）。更别说EUV光刻机了。

现实情况就是，中国在芯片制造领域，最缺少最短板的就是EUV光刻机，以及EDA软件等工具。其他的诸如刻蚀机、硅晶圆、光刻胶等，都有国产替代品了。如果能进口ASML NXE:3600D甚至是NXE:5000的新型EUV光刻机，对中芯国际等国内芯片制造企业当然是有利的。

【 在 mactom 的大作中提到: 】
: 这些遥遥领先不是早就攻克了么？
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