- 主题:国内光刻机水平到达哪个阶段了?
国产光刻机在超净间和foundry用的多吗?
十年前,在苏州某个加工平台,用的suss ml3(忘了型号了),分辨率1um,主要做mems,也够用。有趣的是旁边有一台中科院生产的光刻机,工作人员说性能差不多。但这台机一直摆在这,没有客户使用过。
十年过去了,好奇现在国产光刻机比例高不高?不一定是高端的,14nm 或28nm这种用于集成电路,也包括中低端的,比如mems或微流体相关的。
发自「今日水木 on CLT-AL00l」
--
FROM 79.242.186.*
90nm级别,可做65nm,45nm?
【 在 dkf5201314 的大作中提到: 】
: 国产光刻机在超净间和foundry用的多吗?
:
: 十年前,在苏州某个加工平台,用的suss ml3(忘了型号了),分辨率1um,主要做mems,也够用。有趣的是旁边有一台中科院生产的光刻机,工作人员说性能差不多。但这台机一直摆在这,没有客户使用过。
: ...................
--
FROM 183.195.101.*
大概15年前主流水平?
【 在 dkf5201314 的大作中提到: 】
:
: 国产光刻机在超净间和foundry用的多吗?
:
: 十年前,在苏州某个加工平台,用的suss ml3(忘了型号了),分辨率1um,主要做mems,也够用。有趣的是旁边有一台中科院生产的光刻机,工作人员说性能差不多。但这台机一直摆在这,没有客户使用过。
:
#发自zSMTH@MI 8
--
FROM 117.136.66.*