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主题:Re: 提个思路:可否用集成化,并行化电子束光刻,替代euv
justmj
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2020-06-03 14:40:44
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效率不是低一点,是低太多。掩膜板是电子束直写光刻制造的,14nm的掩膜板几十个小时写一块。duv和euv光刻30秒一片。
【 在 anotherstone 的大作中提到: 】
:
: 效率是低点,但能解决有无问题,
:
: 结构上简单,量产后,会不会成本也能下来。?
:
#发自zSMTH@JSN-AL00
--
FROM 114.92.175.*
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