中科院上海高等研究院发布了博士后研究人员招聘启事，上面明确写着，应聘人员入站后将参与Sub-7nm先进集成电路器件同步辐射表征及应用研究等课题。
“面向Sub-7nm先进工艺节点集成电路核心器件的同步辐射表征技术及应用”是国家重大研发计划之一，于2021年立项，项目实施周期5年。这个项目涉及的是7nm的集成电路，以及相关的一些设备、装置、技术等，比如极紫外光刻技术光刻胶合成制造与刻蚀评估、EUV掩模检测的光学系统设计与装备集成、微纳晶圆尺度制造的光学器件等。
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