这有两方面的原因

第一个方面，就是我常说的，2011年以后明显更替了指数范式，集成电路进入了第三个指数阶段。以前用平面cmos栅宽代表的特征尺寸，不再适合表征该阶段基本器件——立体finfet的特征尺寸了。从2011年起，产业技术路线图的特征尺寸就带引号了。

第二个方面，主要原因是euv虽然已经找出来了，但光源功率始终不足，直到2019年才解决。次要原因是，英特尔是专门做数据处理芯片的，工艺改进在头部三家（英特尔、三星、台积电）里面策略最激进，钴互联、四次成像、euv光刻同时推进。这导致英特尔受euv实用化进展影响程度最深，只好一再推迟进入下一制程。


【 在 tgfbeta 的大作中提到: 】
: 可是intel这么贞洁的最后还是屈尊改名了
: 不再坚持10nm+++++++++了
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