毕业于中国北京大学，现为美国麻省理工大学博士的朱嘉迪领衔科研团队，在芯片微型化领域取得突破性的进展，可直接在八吋硅基晶元上沉积仅有三个原子厚度、可供生长纳米级晶体管的二硫化钼化合物，有望打破晶体管微型化升级换代的摩尔定律，成为美国科学技术革命的最新创举。

朱嘉迪2019年进入麻省理工学院，是电气工程和计算机科学的博士生，他的导师是行业的领军人物，美国科技界评论，朱嘉迪主导的这个技术创新，成为美国芯片技术继续大幅领先的重要里程碑。



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