光刻需要6瓦，ASML大量资金和人力是砸在
1、怎么用LPP方式激发13.5nm激光
2、怎么保证300w输出功率经过物镜后剩下6瓦

而如果你换成外置光源，同步辐射很容易产生13.5nm甚至更短的波长
也很容易得到几千上万瓦的输出，比如3000w输出吧

ASML原来的高精度物镜系统，最后有效率是6/300=2%
你现在只需要做一个有效率6/3000=0.2%的物镜系统

你觉得难度会不会大大下降？大力出奇迹，功率高了随便搞呀

【 在 ipwireless 的大作中提到: 】
: 哪一样有损耗的问题，并不比ASML的方案强。
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