重点是
类似ASML这种内置在10平米内的300瓦EUV光源不仅难搞
而且后续物镜也一堆麻烦，精度要求极高

咱们直接搞几千平米的输出万瓦级的外置EUV光源厂，就能把很多技术瓶颈绕过去了
用新的激发方式，不管是同步辐射还是什么，砸个外置光源厂出来
EUV光刻机的难关立马减少80%

剩下的双工作台精度问题，华卓精科好像解决了

【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: 那得投点钱，让他们搞一下，谁知道到底能不能走通。
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