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主题:Re: 据说同步辐射光刻的主要难点是 去相干?
shuimu0691
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2023-09-15 18:13:25
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【 在 woolgather 的大作中提到: 】
: 因为同步辐射光是 准相干
: 直接用于光刻 会出现干涉条纹
: 要去相干
: ...................
因为光刻图案会有大量线条,衍射,当然会有相干。
之前就看到过华为有相关专利。
当时看得莫名其妙,因为确实没想到华为真的搞出euv工艺芯片!牛逼,华为!
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