【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 我认为还有很多技术难点需要解决，光刻机的那个磁悬浮的平台，也不好搞。
: 还有刻蚀机，这个也不好搞，还要结合光刻胶去做，但国产光刻胶还没影呢。
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刻蚀机，3nm的已经给台积电在用了。光刻胶已经规模量产了。工作台，多的是。
反射镜，华为和相关单位照造。
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