水木社区手机版
首页
|版面-微电子技术(METech)|
新版wap站已上线
展开
|
楼主
|
同主题展开
|
溯源
|
返回
上一篇
|
下一篇
|
同主题上篇
|
同主题下篇
主题:Re: 据说同步辐射光刻的主要难点是 去相干?
lxku
|
2023-09-16 12:45:33
|
整机搞出来了再说,一说起来就是多的是,什么都不是个事,但就是拿不出来东西。
【 在 shuimu0691 的大作中提到: 】
: 刻蚀机,3nm的已经给台积电在用了。光刻胶已经规模量产了。工作台,多的是。
: 反射镜,华为和相关单位照造。
--
FROM 124.64.16.*
上一篇
|
下一篇
|
同主题上篇
|
同主题下篇
选择讨论区
首页
|
分区
|
热推
BYR-Team
©
2010.
KBS Dev-Team
©
2011
登录完整版