不要抠字眼，不要欺负外行。

问题翻译一下：
一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的光罩（mask)?

请楼下给我们小白科普。


【 在 JavaGuyHan 的大作中提到: 】
: 哪来6nm光刻机？最先进的EUV也才13.5nm。
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