各位高知，6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米，周期4纳米的结构？
_
※ 修改:·snowfields 于 Apr  8 11:35:45 2025 修改本文·[FROM: 49.93.212.*]
※ 来源:·水木社区 http://m.mysmth.net·[FROM: 49.90.83.*]

修改:snowfields FROM 49.93.212.*
FROM 49.90.83.*

想做出周期4个纳米、凹凸凹凸凹凸 的周期性结构，请问用6纳米的制程能做出来吗？



【 在 muguanxi 的大作中提到: 】
: 你觉得宣称的2纳米是2纳米吗？
--
FROM 49.93.212.*

不要抠字眼，不要欺负外行。

问题翻译一下：
一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的光罩（mask)?

请楼下给我们小白科普。


【 在 JavaGuyHan 的大作中提到: 】
: 哪来6nm光刻机？最先进的EUV也才13.5nm。
: _
--
FROM 113.106.107.*

【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 各位高知，6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米，周期4纳米的结构？
_
--
FROM 120.204.96.*

你这是物理的4nm啊，问题是现在制程的nm是等效折算的，实际上线条大很多

【 在 snowfields 的大作中提到: 】
:
: 想做出周期4个纳米、凹凸凹凸凹凸 的周期性结构，请问用6纳米的制程能做出来吗？
:
: 【 在 muguanxi 的大作中提到: 】
: : 你觉得宣称的2纳米是2纳米吗？
--
FROM 223.104.40.*