是这个意思。最后两个字改一下，光罩改成晶圆

一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的晶圆?


【 在 fzjmaster 的大作中提到: 】
: 不要抠字眼，不要欺负外行。
: 问题翻译一下：
: 一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的光罩（mask)?
: ...................
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修改:snowfields FROM 180.98.131.*
FROM 180.98.131.*

LELE应该可以，需要eda软件的配合，良率会下降。

【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 是这个意思。最后两个字改一下，光罩改成晶圆
: 一开始用于x纳米的光刻机，因为被制裁，买不到ASML的更先进的光刻机，怎么用这台 “x纳米”的光刻机，做出 x/2纳米的晶圆?
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FROM 223.104.40.*

这样在晶圆做出来的不是两层，而是多层


【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 用程序来分GDS，一层mask分成多层，每一层里的图形间距拉大到能做的节点，然后对原本一层的工艺做多次曝光刻蚀。
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FROM 180.98.71.*

假设第一次在晶圆上做了600纳米凹凸凹凸凹凸的结构，第二次错位200纳米，那最左边的200纳米深度就变得会更深，这样就变成了三层


【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 可以在一层上面做
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修改:snowfields FROM 180.98.71.*
FROM 180.98.71.*

我一年做200张mask



【 在 lxku 的大作中提到: 】
: 你是不是不知道什么叫mask？
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FROM 49.90.92.*