- 主题:用同步辐射光源实现EUV弯道超车是可行 (转载)
LPP就是现在ASML的方式呀
用20万瓦的二氧化碳激光去轰击锡滴来产生300瓦的EUV，然后通过收集镜，照明反射镜和投影物镜经过11次反射后到达硅片表面，每次反射损耗30%能量，最终到达硅片的能量只有可怜的300瓦x2%=6瓦。为了解决锡污染，又搞了一堆特殊镜头。
【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: LPP是啥？制光效率怎么样？能不能小型化？能用光纤长距离传输高功率激光吗？
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FROM 123.114.90.*
可以申请专利先占个坑，每个技术方向以后的强弱谁说得来呢
【 在 ipwireless 的大作中提到: 】
: 哪一样有损耗的问题，并不比ASML的方案强。
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FROM 221.217.25.*
LPP中文怎么说？我和领导汇报，给你的项目投钱，我不能只说英文吧？什么20万瓦，不符合中文表述，直接说200千瓦多好。
【 在 Zinux 的大作中提到: 】
: LPP就是现在ASML的方式呀
: 用20万瓦的二氧化碳激光去轰击锡滴来产生300瓦的EUV，然后通过收集镜，照明反射镜和投影物镜经过11次反射后到达硅片表面，每次反射损耗30%能量，最终到达硅片的能量只有可怜的300瓦x2%=6瓦。为了解决锡污染，又搞了一堆特殊镜头。
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FROM 125.33.81.*
LPP（laser-produced plasma）全称为激光等离子体光源
别给我投钱呀，我不是这方面专家
只是根据网上的资料分析一下，发现弯道超车ASML EUV是有可能的
原来以为要追赶10-20年，现在真有可能3-5年就能把ASML甩后面
现在ASML的路子再往下走很难了
【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: LPP中文怎么说？我和领导汇报，给你的项目投钱，我不能只说英文吧？什么20万瓦，不符合中文表述，直接说200千瓦多好。
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FROM 123.114.90.*
那得投点钱，让他们搞一下，谁知道到底能不能走通。
【 在 Zinux 的大作中提到: 】
: LPP（laser-produced plasma）全称为激光等离子体光源
: 别给我投钱呀，我不是这方面专家
: 只是根据网上的资料分析一下，发现弯道超车ASML EUV是有可能的
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FROM 125.33.81.*
光刻需要6瓦，ASML大量资金和人力是砸在
1、怎么用LPP方式激发13.5nm激光
2、怎么保证300w输出功率经过物镜后剩下6瓦
而如果你换成外置光源，同步辐射很容易产生13.5nm甚至更短的波长
也很容易得到几千上万瓦的输出，比如3000w输出吧
ASML原来的高精度物镜系统，最后有效率是6/300=2%
你现在只需要做一个有效率6/3000=0.2%的物镜系统
你觉得难度会不会大大下降？大力出奇迹，功率高了随便搞呀
【 在 ipwireless 的大作中提到: 】
: 哪一样有损耗的问题，并不比ASML的方案强。
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FROM 123.114.90.*
砸吧，赶紧把光源搞定了
现在清华说是要在雄安搞一个稳态微聚束极紫外光源（SSMB-EUV）项目
SSMB是产生同步辐射的新方式
搞出超大功率的EUV稳定光源，相当于把ASML的武功废掉一大半
【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: 那得投点钱，让他们搞一下，谁知道到底能不能走通。
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FROM 123.114.90.*
重点是
类似ASML这种内置在10平米内的300瓦EUV光源不仅难搞
而且后续物镜也一堆麻烦，精度要求极高
咱们直接搞几千平米的输出万瓦级的外置EUV光源厂，就能把很多技术瓶颈绕过去了
用新的激发方式，不管是同步辐射还是什么，砸个外置光源厂出来
EUV光刻机的难关立马减少80%
剩下的双工作台精度问题，华卓精科好像解决了
【 在 dragonfly112 的大作中提到: 】
: 那得投点钱，让他们搞一下，谁知道到底能不能走通。
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FROM 123.114.90.*
光源功率大了，搞批量电子束直写都行。
【 在 Zinux 的大作中提到: 】
: 砸吧，赶紧把光源搞定了
: 现在清华说是要在雄安搞一个稳态微聚束极紫外光源（SSMB-EUV）项目
: SSMB是产生同步辐射的新方式
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FROM 125.33.81.*
现有状态下，千万不要去开辟新的技术路线，一定要走美帝成功的老路，切记
【 在 Zinux 的大作中提到: 】
: 【 以下文字转载自 ITExpress 讨论区 】
: 发信人: Zinux (Zinux), 信区: ITExpress
: 标 题: 用同步辐射光源实现EUV弯道超车是可行
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FROM 124.64.17.*