3月8日消息，今日业内传出消息称，某日本某光刻胶大厂已经执行美国“实体清单”的限制要求，对中国大陆某存储晶圆厂断供了KrF光刻胶。

有业内人士向芯智讯表示，消息属实。但并未透露更多细节。

芯智讯随后也有联系相关国产存储晶圆厂商内部人士，对方表示“不清楚”。

受该传闻影响，今日下午，A股开盘后，光刻胶相关概念股集体大涨。截至收盘，容大感光上涨20%、南大光电上涨9.9%、晶瑞电材上涨6.42%、上海新阳上涨4.34%、彤程新材上涨4.03%、华懋科技上涨3.81%。

全球光刻胶市场格局：日美厂商占据垄断地位

众所周知，光刻胶是半导体芯片制造过程中所必须的关键材料。由于目前光刻机曝光光源一共有六种，分别是紫外全谱（300～450nm）、 G 线（436nm）、 I 线（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和极紫外（EUV），相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生，对应分别为，g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。

从全球光刻胶市场来看，根据 TOK 和 Fujifilm 数据显示，2020 年各细分半导体光刻胶产品厂商市场主要被日美厂商所占据：

g/i 线：东京应化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%，住友化学占比 15.7%；

KrF：东京应化占比 31.4%，信越化学占比 21.9%，合成橡胶占比 20.9%，陶氏杜邦占比 10.9%；

ArF：合成橡胶（JSR）占比24.9%，信越化学占比 21.8%，住友化学占比 16.8%，东京应化占比15.8%；

EUV：东京应化占比51.8%，另外合成橡胶（JSR）也有不小的份额。
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