用程序来分GDS，一层mask分成多层，每一层里的图形间距拉大到能做的节点，然后对原本一层的工艺做多次曝光刻蚀。
【 在 snowfields 的大作中提到: 】
: 各位高知，6纳米的光刻机，怎么做出半周期2纳米，周期4纳米的结构？
: _
: ※ 修改:·snowfields 于 Apr 8 11:35:45 2025 修改本文·[FROM: 49.93.212.*]
: ...................
--
修改:snowfields FROM 49.93.212.*
FROM 114.254.0.*