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主题:600纳米的光刻机,怎么做出半周期200纳米、周期400纳米的结构
snowfields
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2025-04-23 12:15:26
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图1是掩膜版,线条宽度600微米,图2是同一块掩膜版,向右错位200微米,图3是同一块掩膜版,向左错位200微米。通过套刻,可以得到图3到图7的结构,任何一种结构都有4种或5种不同深度,但需要的是最后面那个图(图8)那样的2种不同深度。
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修改:snowfields FROM 58.208.133.*
FROM 58.208.133.*
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